Čišćenje UV svjetla 

Čišćenje je važan proces u proizvodnom procesu LCD-a, a učinak čišćenja direktno utječe na kvalitet i vijek trajanja proizvoda. Načini čišćenja: Pored konvencionalnog čišćenja na vodenoj osnovi i čišćenje zraka, UV ultraljubičasto čišćenje se koristi i u mnogim procesima.

Princip rada UV tehnologije čišćenja: Ova metoda koristi foto-oksidaciju organskih spojeva za uklanjanje pridržanih organskih tvari sa materijalnih površina, postizanje "čistoće atomskog nivoa" putem fotolitografije. Konkretno, UV-ovi izvori Emitiraju fotone na 185nm i 254nm talasne dužine, koje nose visoku energiju. Kada ovi fotoni udaraju površinu materijala koji se očiste, većina ugljovodonika apsorbiraju 185nm UV svjetlost sa izvanrednom efikasnošću. Apsorbirana energija zatim raspada u jone, besplatne atome, uzbuđene molekule i neutrone - proces poznat kao foto-oksidacija. Istovremeno, molekuli kisika u zraku apsorbiraju 185nm UV lampica i generiraju ozonski i atomski kisik. Ozon pokazuje snažnu apsorpciju 254nm UV svjetlosti i dalje se probija u atomski kisik i kisik. Visoko reaktivni atomski kisik olakšava raspadanje ugljičnih i ugljikovodičnih ostataka na površinama, pretvarajući ih u isparljive gasove poput ugljičnog dioksida i vodene pare koji pobježu s površine materijala. Ovaj mehanizam temeljito eliminira ugljični i organski kontaminante koji se pridržavaju površine materijala.

Tijekom čišćenja, opstrvatska je optimizirana optimizirana. Staklene supstracije prenose se pomoću valjka, dok se iznad žive lampe niskog pritiska stvara ultraljubičast (UV) zračenje. Što više UV energije akumulira staklenim podrumom, manji je njegov kontakt površine vode - ovo slijedi obrnutu vezu. U TN-LCD / STN-LCD / VA-LCD procesima proizvode, potrebna UV akumulacija energije za staklene podloge prelazi 300 mj / cm2 (253,7nm). Za proizvodnju TFT-LCD-a, pored čišćenja ozona koristeći lampe za življenje niskog pritiska, glavni proces trenutnog struje zapošljava excimer lampe. Njihova visoka reaktivnost UV svjetlost na 172nm talasnoj dužini pruža vrhunsku efikasnost čišćenja za staklene podloge.

Značajke čišćenja UV svjetla:
1) To je metoda bez kontaktnih podataka koja se može izvesti u zraku i ne treba se sušiti nakon čišćenja.
2, može u potpunosti ukloniti ugljenik i organske zagađivače na površini predmeta.
3. Volatilizacija i odlaganje raspaljivanja bez otpada.
4. Osigurajte visoku pouzdanost i visoki prinos proizvoda.
5. Uniformnost obrade površinskog čišćenja je dosljedna.
Napomena: Budući da je čišćenje svjetlosti uklanjanje ugljičnih i organskih spojeva na površini objekata kroz fotosenzitivne i oksidacijske reakcije, metoda svjetlosti ne smije se koristiti za površine sklone oksidaciji. Prikladan je samo za čišćenje površinske prljavštine, ali ne za čišćenje anorganske prljavštine s više prljavštine.

UV čišćenje je pogodno za materijale, uključujući ito staklo, optičko staklo, kromirane ploče, ploče maske i metalne površine sa oksidnim filmovima koji zahtijevaju precizno čišćenje. Ovaj proces učinkovito uklanja razne kontaminante kao što su organske ostatke, ljudski sebum, kozmetička ulja, dodaci smola, poliimida, parafinski vosak, rosin, maziva i preostali fotoresist.
Nadalje, UV izvori svjetlosti u LCD proizvodnji pokazuju UV mogućnosti modifikacije površine. Trenutno su prvenstveno zaposleni u tehnologijama prerade filmova kako bi se poboljšala inter-filmska adhezija između komponenti kao što su ITO filmovi i fotoosjetljivi ljepljivi slojevi, kao i gornji premazi i poliimid (PI) premazi. Prije lijepljenja čipova u COG proizvodima, potrebno je i čišćenje UV lampica za povezivanje površina za poboljšanje čvrstoće adhezije i strukturne stabilnosti.
Uz sve veće potrebe za kvalitetom LCD proizvoda, LCD industrija kontinuirano poboljšava zahtjeve za proizvodni proces. U skladu s potražnjom "Ako želite obaviti dobar posao, prvo morate izoštriti svoje alate", UV oprema za čišćenje svjetla, ključni alat u LCD proizvodnji, nastavit će garantirati kvalitetu LCD proizvoda.