UV -lysrensning 

Rengøring er en vigtig proces i fremstillingsprocessen for LCD, og ​​effekten af ​​rengøring påvirker produktets kvalitet og levetid. Rengøringsmetoder: Ud over konventionel vandbaseret rengøring og luftrensning bruges UV-ultraviolet rengøring også i mange processer.

Arbejdsprincippet om UV-rengøringsteknologi: Denne metode anvender fotokernet af organiske forbindelser til at fjerne klæbede organiske stoffer fra materielle overflader, opnå "atomniveau renlighed" gennem fotolitografi. Specifikt udsender UV -lyskilder fotoner ved 185nm og 254 nm bølgelængder, der bærer høj energi. Når disse fotoner rammer overfladen af ​​materialer, der skal rengøres, absorberer de fleste kulbrinter 185NM UV -lyset med bemærkelsesværdig effektivitet. Den absorberede energi nedbrydes derefter i ioner, frie atomer, ophidsede molekyler og neutroner-en proces, der kaldes fotoxidation. Samtidig absorberer iltmolekyler i luften 185NM UV -lys og genererer ozon og atomisk ilt. Ozon udviser stærk absorption af 254 NM UV -lys og nedbrydes yderligere i atomisk ilt og iltgas. Den stærkt reaktive atomiske ilt letter nedbrydningen af ​​kulstof- og carbonhydridrester på overflader og omdanner dem til flygtige gasser som kuldioxid og vanddamp, der slipper ud fra den materielle overflade. Denne mekanisme eliminerer grundigt kulstof og organiske forurenende stoffer, der overholder materialets overflade.

Under rengøring optimeres underlagets befugtbarhed. Glasunderlag overføres ved hjælp af ruller, mens en lavtryks kviksølvlampe over genererer ultraviolet (UV) bestråling. Jo mere UV -energi akkumuleres af glasunderlaget, jo mindre bliver dens overfladevandskontakt - dette følger et omvendt forhold. I TN-LCD/STN-LCD/VA-LCD-fremstillingsprocesser overstiger den krævede UV-energiakkumulering for glasunderlag 300mJ/cm2 (253,7NM). Til TFT-LCD-produktion, foruden ozonrensning ved hjælp af kviksølvlamper med lavt tryk, anvender mainstream-strømprocessen excimer-lamper. Deres højreaktiv UV-lys ved 172nm bølgelængde leverer overlegen rengøringseffektivitet for glasunderlag.

Funktioner ved UV -lysrensning:
1) Det er en kontaktfri metode, der kan udføres i luften og ikke behøver at tørres efter rengøring.
2, kan fjerne kulstof- og organiske forurenende stoffer på overfladen af ​​genstande.
3. opløsningsmiddelfri flygtigisering og bortskaffelse af affaldsopløsningsmidler.
4. Sørg for høj pålidelighed og højt udbytte af produkter.
5. Ensartetheden af ​​overfladerens rengøringsbehandling er konsistent.
Bemærk: Da let rengøring er at fjerne kulstof- og organiske forbindelser på overfladen af ​​genstande gennem fotosfølsomme og oxidationsreaktioner, bør den lette rengøringsmetode ikke bruges til overflader, der er tilbøjelige til oxidation. Det er kun egnet til rengøring af overflade snavs, men ikke til rengøring af uorganisk snavs med mere snavs.

UV -rengøring er velegnet til materialer, herunder ITO -glas, optisk glas, kromplader, maskeplader og metaloverflader med oxidfilm, der kræver præcisionsrensning. Denne proces fjerner effektivt forskellige forurenende stoffer, såsom organiske rester, humant talg, kosmetiske olier, resinadditiver, polyimider, paraffinvoks, rosin, smøremidler og resterende fotoresist.
Endvidere demonstrerer UV -lyskilder i LCD -fremstilling UV -overflademodifikationsfunktioner. I øjeblikket er de primært anvendt i filmforarbejdningsteknologier for at forbedre interfilmadhæsion mellem komponenter som ITO-film og fotosensitive klæbende lag samt topbelægninger og polyimid (PI) belægninger. Før chipbinding i COG -produkter kræves også UV -lysrengøring på bindingsoverflader for at forbedre vedhæftningsstyrken og strukturel stabilitet.
Med de stigende kvalitetskrav til LCD -produkter har LCD -industrien kontinuerligt forbedret kravene til fremstillingsprocessen. I overensstemmelse med kravet om "Hvis du vil gøre et godt stykke arbejde, skal du først skærpe dine værktøjer", UV Light Cleaning Equipment, et nøgleværktøj i LCD -fremstilling, vil fortsat garantere kvaliteten af ​​LCD -produkter.