Καθαρισμός φωτός UV 

Ο καθαρισμός είναι μια σημαντική διαδικασία στη διαδικασία κατασκευής της LCD και η επίδραση του καθαρισμού επηρεάζει άμεσα την ποιότητα και τη διάρκεια ζωής των προϊόντων. Μέθοδοι καθαρισμού: Εκτός από τον συμβατικό καθαρισμό με βάση το νερό και τον καθαρισμό αέρα, ο καθαρισμός υπεριώδους υπεριώδους επιπέδου χρησιμοποιείται επίσης σε πολλές διαδικασίες.

Η αρχή λειτουργίας της τεχνολογίας καθαρισμού UV: Αυτή η μέθοδος χρησιμοποιεί τη φωτο-οξείδωση των οργανικών ενώσεων για την απομάκρυνση των προσκολλημένων οργανικών ουσιών από τις επιφάνειες των υλικών, επιτυγχάνοντας "καθαριότητα ατομικού επιπέδου" μέσω της φωτοβολιτογραφίας. Συγκεκριμένα, οι πηγές φωτός UV εκπέμπουν φωτόνια στα 185nm και 254nm μήκη κύματος, τα οποία φέρουν υψηλή ενέργεια. Όταν αυτά τα φωτόνια χτυπήσουν την επιφάνεια των υλικών που πρέπει να καθαριστούν, οι περισσότεροι υδρογονάνθρακες απορροφούν το φως UV 185nm με αξιοσημείωτη απόδοση. Η απορροφημένη ενέργεια στη συνέχεια αποσυντίθεται σε ιόντα, ελεύθερα άτομα, διεγερμένα μόρια και νετρόνια-μια διαδικασία γνωστή ως φωτο-οξείδωση. Ταυτόχρονα, μόρια οξυγόνου στον αέρα απορροφούν το φως UV 185nm και παράγουν όζον και ατομικό οξυγόνο. Το όζον παρουσιάζει ισχυρή απορρόφηση ύψους 254nm UV και περαιτέρω διασπάται σε ατομικό οξυγόνο και αέριο οξυγόνου. Το εξαιρετικά αντιδραστικό ατομικό οξυγόνο διευκολύνει την αποσύνθεση των υπολειμμάτων άνθρακα και υδρογονανθράκων στις επιφάνειες, μετατρέποντάς τα σε πτητικά αέρια όπως το διοξείδιο του άνθρακα και τους υδρατμούς που διαφεύγουν από την επιφάνεια του υλικού. Αυτός ο μηχανισμός εξαλείφει διεξοδικά τον άνθρακα και τους οργανικούς μολυντές που προσκολλώνται στην επιφάνεια του υλικού.

Κατά τη διάρκεια του καθαρισμού, η διαβρεξιμότητα του υποστρώματος είναι βελτιστοποιημένη. Τα γυάλινα υποστρώματα μεταφέρονται χρησιμοποιώντας κυλίνδρους, ενώ ένας λαμπτήρας υδραργύρου χαμηλής πίεσης πάνω παράγει υπεριώδη ακτινοβολία (UV). Όσο περισσότερη ενέργεια UV συσσωρεύεται από το γυάλινο υπόστρωμα, τόσο μικρότερη γίνεται η επαφή του επιφανειακού νερού - αυτό ακολουθεί μια αντίστροφη σχέση. Σε διαδικασίες παραγωγής TN-LCD/STN-LCD/VA-LCD, η απαιτούμενη συσσώρευση ενέργειας UV για υαλώδη υποστρώματα υπερβαίνει τα 300mJ/cm2 (253,7Nm). Για την παραγωγή TFT-LCD, εκτός από τον καθαρισμό του όζοντος χρησιμοποιώντας λαμπτήρες υδραργύρου χαμηλής πίεσης, η διαδικασία mainstream ρεύματος χρησιμοποιεί λαμπτήρες excimer. Το φως UV υψηλής αντιδραστικότητας στο μήκος κύματος 172nm προσφέρει ανώτερη απόδοση καθαρισμού για γυάλινα υποστρώματα.

Χαρακτηριστικά καθαρισμού φωτός UV:
1) Πρόκειται για μια μέθοδο χωρίς επαφή που μπορεί να πραγματοποιηθεί στον αέρα και δεν χρειάζεται να στεγνώσει μετά τον καθαρισμό.
2, μπορεί να αφαιρέσει πλήρως τον άνθρακα και τους οργανικούς ρύπους στην επιφάνεια των αντικειμένων.
3. Πτυσσόμενος χωρίς διαλύτη και διάθεση διαλυτών αποβλήτων.
4. Εξασφαλίστε υψηλή αξιοπιστία και υψηλή απόδοση προϊόντων.
5. Η ομοιομορφία της θεραπείας καθαρισμού επιφάνειας είναι συνεπής.
ΣΗΜΕΙΩΣΗ: Δεδομένου ότι ο καθαρισμός του φωτός είναι η απομάκρυνση του άνθρακα και των οργανικών ενώσεων στην επιφάνεια των αντικειμένων μέσω αντιδράσεων φωτοευαίσθητων και οξείδωσης, η μέθοδος καθαρισμού του φωτός δεν πρέπει να χρησιμοποιείται για επιφάνειες επιρρεπείς στην οξείδωση. Είναι κατάλληλο μόνο για καθαρισμό βρωμιάς επιφάνειας, αλλά όχι για καθαρισμό ανόργανων βρωμιών με περισσότερη βρωμιά.

Ο καθαρισμός με υπεριώδη ακτινοβολία είναι κατάλληλος για υλικά, όπως γυαλί ITO, οπτικό γυαλί, πλάκες χρωμίου, πλάκες μάσκας και μεταλλικές επιφάνειες με μεμβράνες οξειδίου που απαιτούν καθαρισμό ακριβείας. Αυτή η διαδικασία απομακρύνει αποτελεσματικά διάφορα μολυσματικά, όπως οργανικά υπολείμματα, ανθρώπινο σμήγμα, καλλυντικά έλαια, πρόσθετα ρητίνης, πολυϊμίδια, κερί παραφίνης, κιόστορα, λιπαντικά και υπολειμματικά φωτοανθεκτικά.
Επιπλέον, οι πηγές φωτός υπεριώδους ακτινοβολίας στην παραγωγή LCD δείχνουν δυνατότητες τροποποίησης επιφανείας UV. Επί του παρόντος, χρησιμοποιούνται κυρίως στις τεχνολογίες επεξεργασίας ταινιών για την ενίσχυση της προσκόλλησης μεταξύ των ταινιών μεταξύ των εξαρτημάτων όπως οι ταινίες ITO και των φωτοευαίσθητων συγκολλητικών στρωμάτων, καθώς και των επικαλύψεων και των επικαλύψεων πολυιμιδίων (PI). Πριν από τη συγκόλληση τσιπ σε προϊόντα COG, απαιτείται επίσης καθαρισμός φωτός UV για τις επιφάνειες συγκόλλησης για τη βελτίωση της αντοχής της προσκόλλησης και της δομικής σταθερότητας.
Με τις αυξανόμενες απαιτήσεις ποιότητας των προϊόντων LCD, η βιομηχανία LCD βελτιώνει συνεχώς τις απαιτήσεις για τη διαδικασία κατασκευής. Σύμφωνα με τη ζήτηση του "Εάν θέλετε να κάνετε καλή δουλειά, πρέπει πρώτα να ακονίσετε τα εργαλεία σας", ο εξοπλισμός καθαρισμού UV, ένα βασικό εργαλείο στην Mangurecturing LCD, θα συνεχίσει να εγγυάται την ποιότητα των προϊόντων LCD.