UV -valonpuhdistus 

Puhdistus on tärkeä prosessi LCD: n valmistusprosessissa, ja puhdistuksen vaikutus vaikuttaa suoraan tuotteiden laatuun ja käyttöikäyn. Puhdistusmenetelmät: Tavanomaisen vesipohjaisen puhdistuksen ja ilmanpuhdistuksen lisäksi UV-ultraviolettipuhdistusta käytetään myös monissa prosesseissa.

UV-puhdistustekniikan toimintaperiaate: Tässä menetelmässä hyödynnetään orgaanisten yhdisteiden valokuvan hapettumista tarttuvien orgaanisten aineiden poistamiseksi materiaalipinnoilta saavuttaen ”atomitason puhtauden” fotolitografian kautta. Erityisesti UV -valonlähteet lähettävät fotoneja 185 nm ja 254 nm: n aallonpituuksilla, joilla on korkea energia. Kun nämä fotonit iskevät puhdistettavien materiaalien pinnan, suurin osa hiilivedyt absorboivat 185 nm: n UV -valon huomattavan tehokkuuden avulla. Absorboitunut energia hajoaa sitten ioneiksi, vapaiksi atomeiksi, herätetyiksi molekyyleiksi ja neutroneiksi-prosessiin, joka tunnetaan nimellä foto-hapettuminen. Samanaikaisesti ilmassa happimolekyylit absorboivat 185 nm UV -valoa ja tuottavat otsonin ja atomia hapen. Otsonilla on voimakas 254 nm UV -valon imeytyminen ja hajoaa edelleen atomi -happea ja happikaasua. Erittäin reaktiivinen atomi happi helpottaa hiili- ja hiilivetyhäiriöiden hajoamista pinnoilla muuttamalla ne haihtuviksi kaasuiksi, kuten hiilidioksidiksi ja vesihöyryksi, jotka pakenevat materiaalin pinnalta. Tämä mekanismi eliminoi perusteellisesti hiili- ja orgaaniset epäpuhtaudet, jotka tarttuvat materiaalin pintaan.

Puhdistuksen aikana substraatin kostutettavuus on optimoitu. Lasi-substraatit kuljetetaan rullilla, kun taas yläpuolella oleva matalapaineinen elohopeavalaisin tuottaa ultravioletti (UV) -säteilytyksen. Mitä enemmän UV -energiaa kerää lasi -substraatin, sitä pienemmäksi sen pintaveden kosketus tulee - tämä seuraa käänteistä suhdetta. TN-LCD/STN-LCD/VA-LCD-valmistusprosesseissa vaadittu UV-energian kertyminen lasi-substraateille ylittää 300MJ/CM2 (253,7 nm). TFT-LCD-tuotantoa varten otsoninpuhdistuksen lisäksi matalapaineisten elohopeavalaisimien avulla valtavirran nykyisessä prosessissa käytetään Excimer-lamppuja. Niiden korkea reaktiivisuus UV-valo 172 nm: n aallonpituudella tarjoaa paremman puhdistustehokkuuden lasi-substraateille.

UV -valonpuhdistuksen ominaisuudet:
1) Se on kontaktiton menetelmä, joka voidaan suorittaa ilmassa ja jota ei tarvitse kuivata puhdistuksen jälkeen.
2, voi poistaa hiili- ja orgaaniset epäpuhtaudet esineiden pinnalla.
3. Liuotinvapaa haihtuminen ja jätteiden liuottimien hävittäminen.
4. Varmista korkean luotettavuus ja korkea tuotteiden sato.
5. Pintapuhdistuskäsittelyn yhtenäisyys on tasainen.
Huomaa: Koska valonpuhdistuksen on poistettava hiili- ja orgaaniset yhdisteet esineiden pinnalla valoherkkien ja hapettumisreaktioiden kautta, valonpuhdistusmenetelmää ei tule käyttää hapettumiseen alttiille pinnoille. Se sopii vain pinnan lian puhdistamiseen, mutta ei epäorgaanisen lian puhdistamiseen enemmän likaa.

UV -puhdistus soveltuu materiaaleihin, mukaan lukien ITO -lasi, optinen lasi, kromilevyt, maskilevyt ja metallipinnat oksidikalvoilla, jotka vaativat tarkkuuden puhdistusta. Tämä prosessi poistaa tehokkaasti erilaisia ​​epäpuhtauksia, kuten orgaanisia jäännöksiä, ihmisen tali-, kosmeettisia öljyjä, hartsilisäaineita, polyimidejä, parafiinitahaa, hartsia, voiteluaineita ja jäännösfotoresisteja.
Lisäksi LCD -valmistuksen UV -valonlähteet osoittavat UV -pinnan modifikaatioominaisuudet. Tällä hetkellä niitä käytetään ensisijaisesti kalvonkäsittelytekniikoissa parantaakseen elokuvien välistä tarttuvuutta komponenttien, kuten ITO-kalvojen ja valoherkkien liimakerrosten välillä, samoin kuin yläpinnoitteet ja polyimidi (PI). Ennen CIG -tuotteiden sirun sitomista UV -valonpuhdistus vaaditaan myös sitoutumispinnoissa tarttuvuuslujuuden ja rakenteellisen vakauden parantamiseksi.
LCD -tuotteiden kasvavien laatuvaatimusten myötä LCD -teollisuus on jatkuvasti parantanut valmistusprosessin vaatimuksia. "Jos haluat tehdä hyvää työtä, sinun on ensin terävöitettävä työkalujasi”, UV -valonpuhdistuslaitteet, LCD -valmistuksen avaintyökalu, takaa edelleen LCD -tuotteiden laadun.