UV -lichte reiniging 

Reiniging is een belangrijk proces in het productieproces van LCD, en het effect van het reinigen heeft direct invloed op de kwaliteit van producten en services. Reinigingsmethoden: Naast conventionele reiniging op waterbasis en luchtreiniging, wordt UV-ultraviolette reiniging ook in veel processen gebruikt.

Het werkende principe van UV-reinigingstechnologie: deze methode maakt gebruik van de foto-oxidatie van organische verbindingen om geahechte organische stoffen van materiaaloppervlakken te verwijderen, waardoor "netheid op atoomniveau" wordt bereikt door fotolithografie. In het bijzonder stoten UV -lichtbronnen fotonen uit bij 185 nm en 254 nm golflengten, die hoge energie dragen. Wanneer deze fotonen het oppervlak van te reinigen materiaal raken, absorberen de meeste koolwaterstoffen het 185 nm UV -licht met opmerkelijke efficiëntie. De geabsorbeerde energie ontleedt vervolgens in ionen, vrije atomen, opgewonden moleculen en neutronen-een proces dat bekend staat als foto-oxidatie. Tegelijkertijd absorberen zuurstofmoleculen in de lucht 185 nm UV -licht en genereren ozon- en atomaire zuurstof. Ozon vertoont een sterke absorptie van 254 nm UV -licht en breekt verder af in atomaire zuurstof en zuurstofgas. De zeer reactieve atomaire zuurstof vergemakkelijkt de ontleding van koolstof- en koolwaterstofresiduen op oppervlakken, waardoor ze worden omgezet in vluchtige gassen zoals koolstofdioxide en waterdamp die uit het materiaaloppervlak ontsnappen. Dit mechanisme elimineert grondig koolstof- en organische verontreinigingen die zich aan het oppervlak van het materiaal houden.

Tijdens het reinigen is de bevochtigbaarheid van het substraat geoptimaliseerd. Glazen substraten worden overgebracht met rollers, terwijl een lagedrukkaplamp hierboven ultraviolette (UV) bestraling genereert. Hoe meer UV -energie wordt verzameld door het glazen substraat, hoe kleiner het watercontact van het oppervlak wordt - dit volgt een omgekeerde relatie. In TN-LCD/STN-LCD/VA-LCD-productieprocessen overschrijden de vereiste UV-energie-accumulatie voor glazen substraten 300 MJ/cm2 (253,7 nm). Voor TFT-LCD-productie, naast ozonreiniging met behulp van lagedruk kwiklampen, maakt het reguliere stroomproces gebruik van excimeerlampen. Hun UV-licht met hoge reactiviteit bij 172 nm golflengte levert een superieure reinigingsefficiëntie voor glazen substraten.

Kenmerken van UV -lichtreiniging:
1) Het is een contactvrije methode die in de lucht kan worden uitgevoerd en na het reinigen niet hoeft te worden gedroogd.
2, kan de koolstof- en organische verontreinigende stoffen op het oppervlak van objecten volledig verwijderen.
3. Oplosmiddelvrije vervluchtiging en verwijdering van afvaloplosmiddelen.
4. Zorg voor een hoge betrouwbaarheid en hoge opbrengst van producten.
5. De uniformiteit van de behandeling van oppervlaktereinigingsbehandeling is consistent.
Opmerking: Aangezien lichtreiniging is om koolstof en organische verbindingen op het oppervlak van objecten te verwijderen door middel van lichtgevoelige en oxidatiereacties, mag de lichtreinigingsmethode niet worden gebruikt voor oppervlakken die gevoelig zijn voor oxidatie. Het is alleen geschikt voor het reinigen van oppervlak, maar niet voor het reinigen van anorganisch vuil met meer vuil.

UV -reiniging is geschikt voor materialen zoals ITO -glas, optisch glas, chroomplaten, maskerplaten en metalen oppervlakken met oxidefilms die precisie -reiniging vereisen. Dit proces verwijdert effectief verschillende verontreinigingen zoals organische residuen, menselijke talg, cosmetische oliën, harsadditieven, polyimiden, paraffinewas, hars, smeermiddelen en resterende fotoresist.
Bovendien vertonen UV -lichtbronnen in LCD -productie UV -oppervlaktemodificatiemogelijkheden. Momenteel worden ze voornamelijk gebruikt in filmverwerkingstechnologieën om de adhesie van de interfilm tussen componenten zoals ITO-films en lichtgevoelige lijmlagen te verbeteren, evenals topcoatings en polyimide (PI) coatings. Voordat ChIP -binding in COG -producten is, is UV -lichtreiniging ook vereist op verbindingsoppervlakken om de hechtsterkte en structurele stabiliteit te verbeteren.
Met de toenemende kwaliteitsvereisten van LCD -producten heeft de LCD -industrie de vereisten voor het productieproces continu verbeterd. In overeenstemming met de vraag van "als u het goed wilt doen, moet u eerst uw gereedschap verscherpen", zal de UV -lichtreinigingsapparatuur, een belangrijk hulpmiddel in LCD -productie, de kwaliteit van LCD -producten blijven garanderen.