UV -rengjøring 

Rengjøring er en viktig prosess i produksjonsprosessen til LCD, og ​​effekten av rengjøring påvirker direkte kvaliteten og levetiden til produkter. Rengjøringsmetoder: I tillegg til konvensjonell vannbasert rengjøring og luftrensing, brukes UV Ultrafiolet rengjøring også i mange prosesser.

Arbeidsprinsippet for UV-rengjøringsteknologi: Denne metoden benytter foto-oksidasjon av organiske forbindelser for å fjerne tilslørte organiske stoffer fra materialoverflater, og oppnå "atomnivå renslighet" gjennom fotolitografi. Spesielt avgir UV -lyskilder fotoner ved 185 nm og 254nm bølgelengder, som har høy energi. Når disse fotonene slår overflaten av materialer som skal rengjøres, absorberer de fleste hydrokarboner 185nm UV -lyset med bemerkelsesverdig effektivitet. Den absorberte energien dekomponerer deretter i ioner, frie atomer, eksiterte molekyler og nøytroner-en prosess kjent som foto-oksidasjon. Samtidig absorberer oksygenmolekyler i luften 185nm UV -lys og genererer ozon og atomisk oksygen. Ozon viser sterk absorpsjon av 254nm UV -lys og brytes ytterligere ned i atomisk oksygen og oksygengass. Det sterkt reaktive atom oksygen letter nedbrytningen av karbon- og hydrokarbonrester på overflater, og konverterer dem til flyktige gasser som karbondioksid og vanndamp som slipper ut fra materialoverflaten. Denne mekanismen eliminerer karbon- og organiske forurensninger grundig til materialets overflate.

Under rengjøring er underlagets fuktbarhet optimalisert. Glassunderlag formidles ved hjelp av ruller mens en lavtrykks kvikksølvlampe over genererer ultrafiolett (UV) bestråling. Jo mer UV -energi som er akkumulert av glassunderlaget, jo mindre blir overflatevannskontakten - dette følger et omvendt forhold. I TN-LCD/STN-LCD/VA-LCD-produksjonsprosesser overstiger den nødvendige UV-energiakkumuleringen for glassunderlag 300MJ/cm2 (253,7nm). For TFT-LCD-produksjon, i tillegg til rengjøring av ozon med lavttrykks kvikksølvlamper, bruker mainstream-strømprosessen excimer-lamper. Deres høyreaktivitet UV-lys ved 172 nm bølgelengde gir overlegen rengjøringseffektivitet for glassunderlag.

Funksjoner ved UV -lysrengjøring:
1) Det er en kontaktfri metode som kan utføres i luften og ikke trenger å tørkes etter rengjøring.
2, kan fjerne karbon- og organiske miljøgifter på overflaten av gjenstander.
3. Oppløsningsmiddelfri flyktning og avhending av avfallsoppløsningsmidler.
4. Sørg for høy pålitelighet og høy utbytte av produkter.
5. Ensartetheten av overflatens rengjøring av behandling er konsistent.
Merk: Siden lysrengjøring er for å fjerne karbon- og organiske forbindelser på overflaten av gjenstander gjennom lysfølsomme og oksidasjonsreaksjoner, skal ikke lysrensemetoden brukes til overflater som er utsatt for oksidasjon. Det er bare egnet for rengjøring av overflate, men ikke for rengjøring av uorganisk skitt med mer skitt.

UV -rengjøring er egnet for materialer inkludert ITO -glass, optisk glass, kromplater, maskeplater og metalloverflater med oksydfilmer som krever rengjøring av presisjon. Denne prosessen fjerner effektivt forskjellige forurensninger som organiske rester, humant talg, kosmetiske oljer, harpiks -tilsetningsstoffer, polyimider, parafinvoks, rosin, smøremidler og gjenværende fotoresist.
Videre viser UV -lyskilder i LCD -produksjonen UV -overflatemodifiseringsfunksjoner. For øyeblikket er de først og fremst ansatt i filmbehandlingsteknologier for å forbedre interfilmadhesjon mellom komponenter som ITO-filmer og lysfølsomme limlag, samt toppbelegg og polyimid (PI) belegg. Før chipbinding i COG -produkter, er det også nødvendig med UV -rengjøring på bindingsoverflater for å forbedre vedheftingsstyrken og strukturell stabilitet.
Med de økende kvalitetskravene til LCD -produkter har LCD -industrien kontinuerlig forbedret kravene til produksjonsprosess. I samsvar med etterspørselen fra "Hvis du vil gjøre en god jobb, må du først skjerpe verktøyene dine", vil UV Light Cleaning Equipment, et nøkkelverktøy innen LCD -produksjon, fortsette å garantere kvaliteten på LCD -produkter.