UV Işık Temizliği 

Temizlik, LCD'nin üretim sürecinde önemli bir süreçtir ve temizliğin etkisi, ürünlerin kalite ve hizmet ömrünü doğrudan etkiler. Temizleme Yöntemleri: Geleneksel su bazlı temizlik ve hava temizliğine ek olarak, UV ultraviyole temizleme de birçok işlemde kullanılır.

UV temizleme teknolojisinin çalışma prensibi: Bu yöntem, yapışmış organik maddeleri malzeme yüzeylerinden uzaklaştırmak için organik bileşiklerin foto-oksidasyonunu kullanır ve fotolitografi yoluyla “atomik seviyeli temizlik” elde eder. Özellikle, UV ışık kaynakları, yüksek enerji taşıyan 185nm ve 254nm dalga boylarında foton yayar. Bu fotonlar temizlenecek malzemelerin yüzeyine çarptığında, hidrokarbonların çoğu 185nm UV ışığını dikkate değer verimlilikle emer. Emilen enerji daha sonra iyonlara, serbest atomlara, uyarılmış moleküllere ve nötronlara ayrılır-foto-oksidasyon olarak bilinen bir süreç. Eşzamanlı olarak, havadaki oksijen molekülleri 185nm UV ışığını emer ve ozon ve atomik oksijen üretir. Ozon, 254NM UV ışığının güçlü emilimi sergiler ve atomik oksijen ve oksijen gazına daha fazla parçalanır. Oldukça reaktif atomik oksijen, karbon ve hidrokarbon kalıntılarının yüzeylerdeki ayrışmasını kolaylaştırır, bunları malzeme yüzeyinden kaçan karbondioksit ve su buharı gibi uçucu gazlara dönüştürür. Bu mekanizma, malzemenin yüzeyine yapışan karbon ve organik kirleticileri iyice ortadan kaldırır.

Temizlik sırasında, substratın ıslanabilirliği optimize edilir. Cam substratlar silindirler kullanılarak aktarılırken, yukarıdaki düşük basınçlı bir merkür lambası ultraviyole (UV) ışınlama üretir. Cam substrat tarafından biriken UV enerjisi, yüzey suyu teması o kadar küçük olur - bu ters bir ilişki izler. TN-LCD/STN-LCD/VA-LCD üretim işlemlerinde, cam substratlar için gerekli UV enerji birikimi 300MJ/cm2'yi (253.7nm) aşar. TFT-LCD üretimi için, düşük basınçlı cıva lambaları kullanılarak ozon temizliğinin yanı sıra, ana akım mevcut işlem excimer lambaları kullanır. 172nm dalga boyunda yüksek reaktivite UV ışığı, cam substratlar için üstün temizlik verimliliği sağlar.

UV ışık temizliğinin özellikleri:
1) Havada gerçekleştirilebilen ve temizlikten sonra kurutulması gerekmeyen temassız bir yöntemdir.
2, nesnelerin yüzeyindeki karbon ve organik kirleticileri tamamen çıkarabilir.
3. Solventsiz uçucu volatilizasyon ve atık çözücülerin bertarafı.
4. Yüksek güvenilirlik ve yüksek ürün verimi sağlayın.
5. Yüzey temizleme işleminin tekdüzeliği tutarlıdır.
Not: Işık temizliği, ışığa duyarlı ve oksidasyon reaksiyonları yoluyla nesnelerin yüzeyindeki karbon ve organik bileşikleri çıkarmak olduğundan, ışık temizleme yöntemi oksidasyona eğilimli yüzeyler için kullanılmamalıdır. Sadece yüzey kirini temizlemek için uygundur, ancak inorganik kiri daha fazla kirle temizlemek için değildir.

UV temizliği, ITO cam, optik cam, krom plakaları, maske plakaları ve hassas temizlik gerektiren oksit filmleri olan metal yüzeyler gibi malzemeler için uygundur. Bu işlem organik kalıntılar, insan sebumu, kozmetik yağlar, reçine katkı maddeleri, poliimidler, parafin balmumu, reçin, yağlayıcılar ve artık fotorezist gibi çeşitli kirleticileri etkili bir şekilde ortadan kaldırır.
Ayrıca, LCD üretimindeki UV ışık kaynakları UV yüzey modifikasyon yeteneklerini göstermektedir. Şu anda, öncelikle ITO filmleri ve ışığa duyarlı yapıştırıcı katmanları gibi bileşenler arasında filmler arası yapışmayı arttırmak için film işleme teknolojilerinde kullanılmaktadır. COG ürünlerinde çip bağından önce, yapışma mukavemetini ve yapısal stabiliteyi iyileştirmek için bağlanma yüzeylerinde UV ışık temizliği de gereklidir.
LCD ürünlerinin artan kalite gereksinimleri ile LCD endüstrisi, üretim süreci gereksinimlerini sürekli olarak geliştirmektedir. “İyi bir iş yapmak istiyorsanız, önce araçlarınızı keskinleştirmelisiniz” talebine göre, LCD üretiminde önemli bir araç olan UV ışık temizleme ekipmanı, LCD ürünlerinin kalitesini garanti etmeye devam edecektir.