紫外线清洁 

清洁是LCD制造过程中的重要过程，清洁的影响直接影响产品的质量和使用寿命。清洁方法：除了传统的水基清洁和空气清洁外，紫外线紫外线清洁还用于许多过程。

紫外线清洁技术的工作原理：这种方法利用有机化合物的光氧化从材料表面中去除粘附的有机物质，通过光刻实现“原子水平的清洁度”。具体而言，紫外线光源在185nm和254nm波长下发出光子，它们具有高能。当这些光子撞击要清洁的材料表面时，大多数碳氢化合物都会以显着的效率吸收185nm的紫外线。然后，吸收的能量分解为离子，游离原子，激发分子和中子 - 一种称为光氧化的过程。同时，空气中的氧分子吸收185nm UV光并产生臭氧和原子氧。臭氧具有254nm UV光的强吸收，并进一步分解为原子氧气和氧气。高反应性原子氧促进了表面上碳和碳氢化合物残基的分解，从而将其转化为挥发性气体，如二氧化碳和从物质表面逸出的水蒸气。这种机制彻底消除了粘附在材料表面上的碳和有机污染物。

在清洁过程中，底物的润湿性得到了优化。玻璃基板是使用滚筒传送的，而上面的低压汞灯会产生紫外线（UV）辐射。玻璃基板积累的紫外线能量越多，其地表水接触越小 - 这是反相关关系的。在TN-LCD/STN-LCD/VA-LCD制造工艺中，玻璃基板所需的UV能量积累超过300mJ/cm2（253.7nm）。对于TFT-LCD的产生，除了使用低压汞灯清洁臭氧清洁外，主流电流过程还采用了精选灯。它们在172nm波长下的高反应性紫外线为玻璃基板提供了出色的清洁效率。

紫外线清洁的功能：
1）这是一种可以在空气中进行的无接触方法，清洁后不需要干燥。
2，可以完全去除物体表面上的碳和有机污染物。
3.废物溶剂的无溶剂挥发和处置。
4.确保产品的高可靠性和高收益。
5。表面清洁处理的均匀性是一致的。
注意：由于光清洁是通过光敏和氧化反应去除物体表面上的碳和有机化合物，因此不应将光清洁方法用于容易氧化的表面。它仅适用于清洁表面污垢，但不适合用更多的污垢清洁无机污垢。

紫外线清洁适用于材料，包括ITO玻璃，光玻璃，铬板，面具板和带有氧化物膜的金属表面，需要精确清洁。该过程有效去除各种污染物，例如有机残基，人皮脂，化妆品油，树脂添加剂，聚酰亚胺，石蜡，松香，润滑剂和残留的光蛋白天。
此外，LCD制造中的紫外线源表现出紫外线的表面修饰能力。目前，它们主要用于胶片加工技术，以增强诸如ITO膜和光敏粘合剂层的组件之间的胶卷间粘附，以及面料涂料和聚酰亚胺（PI）涂料。在COG产品中芯片键合之前，还需要在粘结表面上进行紫外线清洁以提高粘附强度和结构稳定性。
随着LCD产品质量要求的不断增长，LCD行业一直在不断提高制造过程的要求。根据“如果您想做一份好工作，必须首先磨刀”的需求，紫外线清洁设备（LCD制造中的关键工具）将继续保证LCD产品的质量。